Laboratorio di spettroscopia a raggi X

Il laboratorio è dotato di una sofisticatissima apparecchiatura ESCA (spettroscopia a raggi X), in grado di effettuare analisi di superficie e interfaccia utili ad imprese di settori quali microelettronica, materiali compositi, ottica e packaging, materiali in genere.

 

Spettrometro di Fotoelettroni AXIS Ultra DLD

Lo strumento integra una lente magnetica ad immersione ed un sistema in cui gli elettroni lenti usati per la compensazione di carica sono confinati in vicinanza della superficie del campione. Per sensibilità, risoluzione energetica, velocità di acquisizione (sino a 7 spettri al secondo) lo spettrometro si presta molto bene ad indagini su nanoparticelle.

La spettroscopia di fotoemissione a raggi X (X-ray photoemission spectroscopy o XPS) è una tecnica di indagine molto usata per studiare le proprietà dei materiali, sia nell'ambito della ricerca scientifica, sia in ambito industriale, in quanto fornisce informazioni diverse sulle proprietà del materiale indagato e sulla composizione chimica dello strato superficiale dei campioni analizzati (fino a circa un nanometro di profondità). E' possibile, per esempio, verificare se il materiale è ossidato, se contiene carbonio, ferro o qualsiasi altro elemento di interesse e di determinarne la quantità percentuale.

In ambito industriale essa è utilizzata per determinare la composizione chimica dei rivestimenti superficiali di utensili e parti meccaniche. Nella ricerca scientifica lo strumento è molto utile nello studio della crescita di sistemi, quali ad esempio film sottili di materiale organico o inorganico depositati su substrati opportuni, che costituiscono la base per lo sviluppo di dispositivi magnetici o opto-elettronici innovativi.

E' anche possibile ottenere "mappe chimiche" di superficie.